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      詳解MOS場效應(yīng)管的基本結(jié)構(gòu)和工作原理

      作者:佚名    文章來源:本站原創(chuàng)    點擊數(shù):    更新時間:2016/9/18

      N溝道增強(qiáng)型MOSFET的結(jié)構(gòu)示意圖和符號

      圖1 N溝道增強(qiáng)型MOSFET的結(jié)構(gòu)示意圖和符號

        MOS場效應(yīng)三極管分為:增強(qiáng)型(又有N溝道、P溝道之分)及耗盡型(分有N溝道、P溝道)。N溝道增強(qiáng)型MOSFET的結(jié)構(gòu)示意圖和符號見圖1。其中:電極 D(Drain) 稱為漏極,相當(dāng)雙極型三極管的集電極;

        電極 G(Gate) 稱為柵極,相當(dāng)于的基極;
        電極 S(Source)稱為源極,相當(dāng)于發(fā)射極。

        1.N溝道增強(qiáng)型MOSFET
        (1)結(jié)構(gòu)
        根據(jù)圖1,N溝道增強(qiáng)型MOSFET基本上是一種左右對稱的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),它是在P型半導(dǎo)體上生成一層SiO2 薄膜絕緣層,然后用光刻工藝擴(kuò)散兩個高摻雜的N型區(qū),從N型區(qū)引出電極,一個是漏極D,一個是源極S。在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G。P型半導(dǎo)體稱為襯底,用符號B表示  (2)工作原理
        ① 柵源電壓VGS的控制作用
        當(dāng)VGS=0 V時,漏源之間相當(dāng)兩個背靠背的二極管,在D、S之間加上電壓不會在D、S間形成電流。
        當(dāng)柵極加有電壓時,若0<VGSVGS(th)時,通過柵極和襯底間的電容作用,將靠近柵極下方的P型半導(dǎo)體中的空穴向下方排斥,出現(xiàn)了一薄層負(fù)離子的耗盡層。耗盡層中的少子將向表層運(yùn)動,但數(shù)量有限,不足以形成溝道,將漏極和源極溝通,所以仍然不足以形成漏極電流ID
        進(jìn)一步增加VGS,當(dāng)VGSVGS(th
      )時( VGS(th) 稱為開啟電壓),由于此時的柵極電壓已經(jīng)比較強(qiáng),在靠近柵極下方的P型半導(dǎo)體表層中聚集較多的電子,可以形成溝道,將漏極和源極溝通。如果此時加有漏源電壓,就可以形成漏極電流ID。在柵極下方形成的導(dǎo)電溝道中的電子,因與P型半導(dǎo)體的載流子空穴極性相反,故稱為反型層。隨著VGS的繼續(xù)增加,ID將不斷增加。在VGS=0V時ID=0,只有當(dāng)VGSVGS(th)后才會出現(xiàn)漏極電流,這種MOS管稱為增強(qiáng)型MOS管。  VGS對漏極電流的控制關(guān)系可用iDf(vGS)|VDS=const這一曲線描述,稱為轉(zhuǎn)移特性曲線,見圖2。
        轉(zhuǎn)移特性曲線的斜率g
      m的大小反映了柵源電壓對漏極電流的控制作用。 gm 的量綱為mA/V,所以gm也稱為跨導(dǎo)。

      圖2 轉(zhuǎn)移特性曲線

        跨導(dǎo)的定義式如下:
           g
      m=△ID/△VGS|VDS=const (單位mS) (1)
        ②漏源電壓VDS對漏極電流ID的控制作用
        當(dāng)VGSVGS(th),且固定為某一值時,來分析漏源電壓VDS對漏極電流ID的影響。VDS的不同變化對溝道的影響如圖33所示。根據(jù)此圖可以有如下關(guān)系
             VDSVDGVGS= -VGDVGS
             VGDVGSVDS
        當(dāng)VDS為0或較小時,相當(dāng)VGDVGS(th),溝道分布如圖3 (a),此時VDS 基本均勻降落在溝道中,溝道呈斜線分布。在緊靠漏極處,溝道達(dá)到開啟的程度以上,漏源之間有電流通過。
        當(dāng)VDS增加到使VGDVGS(th)時,溝道如圖3(b)所示。這相當(dāng)于VDS增加使漏極處溝道縮減到剛剛開啟的情況,稱為預(yù)夾斷,此時的漏極電流ID基本飽和。當(dāng)VDS增加到VGDVGS(th)時,溝道如圖3 (c)所示。此時預(yù)夾斷區(qū)域加長,伸向S極。 VDS增加的部分基本降落在隨之加長的夾斷溝道上, ID基本趨于不變。

      圖3 漏源電壓VDS對溝道的影響 
      圖3 漏源電壓VDS對溝道的影響

        當(dāng)VGSVGS(th),且固定為某一值時,VDSID的影響, 即iDf(VDS)|VGS=const這一關(guān)系曲線如圖4所示。這一曲線稱為漏極輸出特性曲線。

      圖4 漏極輸出特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線  
      (a) 輸出特性曲線        (b)轉(zhuǎn)移特性曲線
      圖4 漏極輸出特性曲線和轉(zhuǎn)移特性曲線

        2.N溝道耗盡型MOSFET
        N溝道耗盡型MOSFET的結(jié)構(gòu)和符號如圖5(a)所示,它是在柵極下方的SiO2絕緣層中摻入了大量的金屬正離子。所以當(dāng)VGS=0時,這些正離子已經(jīng)感應(yīng)出反型層,形成了溝道。于是,只要有漏源電壓,就有漏極電流存在。當(dāng)VGS>0時,將使ID進(jìn)一步增加。VGS<0時,隨著VGS的減小漏極電流逐漸減小,直至ID=0。對應(yīng)ID=0的VGS稱為夾斷電壓,用符號VGS(off)表示,有時也用VP表示。N溝道耗盡型MOSFET的轉(zhuǎn)移特性曲線如圖5(b)所示。

             
      (a) 結(jié)構(gòu)示意圖          (b) 符號               (c)轉(zhuǎn)移特性曲線
      圖5 N溝道耗盡型MOSFET的結(jié)構(gòu)和轉(zhuǎn)移特性曲線

        3.P溝道耗盡型MOSFET
        P溝道MOSFET的工作原理與N溝道MOSFET完全相同,只不過導(dǎo)電的載流子不同,供電電壓極性不同而已。這如同雙極型三極管有NPN型和PNP型一樣。

      Tags:MOS場效應(yīng)管,結(jié)構(gòu),原理  
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